3.太阳能电池芯片清洗机
本设备适用于各种型号太阳能电池单晶和多晶硅片的清洗腐蚀，整体框架采用德国进口工程塑料板材雕刻后组合焊接加工而成；门板采用德国透明聚氯乙烯（PVC）；腐蚀槽采用德国自然色聚偏二氟乙烯（PVDF）；清洗采用德国自然色聚丙烯板（NPP）；关健部件采用进口件。全程工艺采用PLC控制，触摸屏操作。设备的腐蚀槽和清洗槽间的转换由进口SEW驱动，以迅速实现两槽之间的硅片转换。另外，此设备腐蚀槽还配有美国聚四氟乙烯加热器、虹吸上排、传感器．清洗槽配有溢流装置，和N2鼓泡装置。设备性能稳定可靠，广泛应用于太阳能电池行业，也适合于高校化学实验室作实验设备。结构设计合理，外型美观，性能稳定可
1. 液晶玻璃Pi COAT前清洗设备

本设备通过清洗、喷淋、风刀等过程洗净液晶玻璃基板，并通过IR、UV去除水分，从而提高基板表面的浸润性，冷却基板温度通过后续的TBL进入COAT设备。全程工艺采用PLC控制，触摸屏操作。槽体结构功能可实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔（包括氮气鼓泡）及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。快排冲洗槽（QDR）的工作过程由独立K200型专用控制器保证。它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能。主要处理对象为STN液晶玻璃板，基板传送方向是从左到右，或从右到左，传送高度为从地面至基板下面为900mm，采用水平枚叶式传送方式，传送滚轮间距基本为80mm，标准17秒/块标准传送速度约2.1m/分钟的处理时间，启动后需约60分钟的启动准备时间。设备框架采用德国进口工程塑料板材雕刻后焊接组合加工而成，结构设计合理，外型美观，性能稳定可靠，广泛应用于TFT-LCD液晶行业。非标规格，具体规格根据客户工艺要求确定。
. 半导体硅晶圆显影定影机

本设备可用于半导体工艺中对各种规格尺寸硅晶片进行显影和定影，整台设备均采用德国进口PP材料，经雕刻后组合焊接加工而成。双排槽构成，每排7槽（根据工艺确定），各设一套机械手，两排可同时完成相应的工序。每槽装片能力：50片/批（2花篮，25片/花篮）。 工作区洁净度：100级。槽间工艺转换时间：Tm ax≤3.5S，工艺过程为全自动，全程PLC控制，触摸屏操作。结构设计合理，外型美观。适用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验湿台、腐蚀台。非标规格，具体规格依客户工艺确定。