磁控溅射靶材

（可为电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供高品质靶材）

高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶，铬靶，铜靶，镍靶，硅靶，锗靶，铌靶材，钛钯，铟靶，银靶，锡靶，石墨靶，钽靶，钼靶，金靶，铪靶，锰靶，锆靶，镁靶，锌靶，铅靶，铱靶，钇靶，铈靶，镧靶，镱靶，钆靶，铂靶等高纯单质金属溅射靶材。

高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶，AZO靶，IGZO靶，氧化镁靶，氧化钇靶，氧化铁靶材，,氧化镍靶，氧化铬靶，氧化锌靶，硫化锌靶，硫化镉靶材，硫化钼靶，二氧化硅靶，一氧化硅靶，二氧化锆靶，五氧化二铌靶，二氧化钛靶，二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽靶，氟化镁靶，硒化锌靶，氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶材，铌酸锂靶，钛酸镨靶材，钛酸钡靶，钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.

备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶，镍铬合金靶，钛铝合金靶，硅铝合金靶，铜铟合金靶，铜镓合金靶，铜铟镓合金靶，铜铟镓硒靶，不锈钢靶，锌铝合金靶，钨钛靶，，铁钴靶，白铜靶等高纯合金溅射靶材。

备注：CNM生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。